Journal Of The Society For Information Display

SCIE

按雜志級(jí)別劃分： 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)

4區(qū) 中科院分區(qū)
Q3 JCR分區(qū)
56 年發(fā)文量
100.00% 研究類文章占比
7.84% Gold OA文章占比

ISSN：1071-0922

創(chuàng)刊時(shí)間：1993

是否預(yù)警：否

E-ISSN：1938-3657

出版地區(qū)：UNITED STATES

是否OA：未開放

出版語言：English

出版周期：Monthly

影響因子：1.7

出版商：Wiley-Blackwell

審稿周期：較慢,6-12周

CiteScore：4.8

H-index：45

出版國人文章占比：0.29

開源占比：0.0736

文章自引率：0.0869...

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Journal Of The Society For Information Display雜志簡介

Journal Of The Society For Information Display是由Wiley-Blackwell出版商主辦的工程技術(shù)領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊，自1993年創(chuàng)刊以來，一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(hào)（ISSN：1071-0922，E-ISSN：1938-3657），出版周期Monthly，其出版地區(qū)設(shè)在UNITED STATES。該期刊的核心使命旨在推動(dòng)工程技術(shù)專業(yè)及ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC學(xué)科界的教育研究與實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的交流，發(fā)表同行有創(chuàng)見的學(xué)術(shù)論文，提倡學(xué)術(shù)爭鳴，激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新，開展國際間學(xué)術(shù)交流，為工程技術(shù)領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。

該期刊文章自引率0.0869...，開源內(nèi)容占比0.0736，出版撤稿占比0，OA被引用占比0.0612...，讀者群體主要包括工程技術(shù)的專業(yè)人員，研究生、本科生以及工程技術(shù)領(lǐng)域愛好者，這些讀者群體來自全球各地，具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。Journal Of The Society For Information Display已被國際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫“ SCIE（Science Citation Index Expanded） ”收錄，方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用，有助于推動(dòng)ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的研究進(jìn)展和創(chuàng)新發(fā)展。

收錄信息

SCIE（科學(xué)引文索引擴(kuò)展板）

CiteScore（2024年最新版）

CiteScore：4.8
SJR：0.588
SNIP：1.164

學(xué)科類別	分區(qū)	排名	百分位
大類：Engineering 小類：Electrical and Electronic Engineering	Q2	280 / 797	64%
大類：Engineering 小類：Atomic and Molecular Physics, and Optics	Q2	80 / 224	64%
大類：Engineering 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials	Q2	106 / 284	62%

CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評(píng)估，打破了過去僅依賴單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù)，跨越多個(gè)學(xué)科領(lǐng)域，從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分，包括SNIP（源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響）、SJR（SCImago雜志排名）、引用文檔計(jì)數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo)，幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個(gè)指標(biāo)的詳細(xì)信息。

CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對(duì)比

Journal Of The Society For Information Display中科院分區(qū)表

中科院分區(qū) 2023年12月升級(jí)版

大類學(xué)科	分區(qū)	小類學(xué)科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
工程技術(shù)	4區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)	否	否

中科院分區(qū) 2022年12月升級(jí)版

大類學(xué)科	分區(qū)	小類學(xué)科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
工程技術(shù)	4區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)	否	否

中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級(jí)版

大類學(xué)科	分區(qū)	小類學(xué)科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
工程技術(shù)	4區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)	否	否

中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版

大類學(xué)科	分區(qū)	小類學(xué)科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
工程技術(shù)	4區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)	否	否

中科院分區(qū) 2021年12月升級(jí)版

大類學(xué)科	分區(qū)	小類學(xué)科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
工程技術(shù)	4區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)	否	否

中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級(jí)版

大類學(xué)科	分區(qū)	小類學(xué)科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
工程技術(shù)	4區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué)：綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)	否	否

中科院分區(qū)表歷年分布趨勢(shì)圖

WOS期刊JCR分區(qū)（2023-2024年最新版）

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)	收錄子集	分區(qū)	排名	百分位
學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC	SCIE	Q3	227 / 352	35.7%
學(xué)科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY	SCIE	Q3	321 / 438	26.8%
學(xué)科：OPTICS	SCIE	Q3	73 / 119	39.1%
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q3	125 / 179	30.4%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)	收錄子集	分區(qū)	排名	百分位
學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC	SCIE	Q3	217 / 354	38.84%
學(xué)科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY	SCIE	Q3	273 / 438	37.79%
學(xué)科：OPTICS	SCIE	Q3	77 / 120	36.25%
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q3	115 / 179	36.03%

JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)，也被稱為JCR期刊分區(qū)，是由湯森路透公司（現(xiàn)在屬于科睿唯安公司）制定的一種國際通用和公認(rèn)的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫，按照期刊的影響因子進(jìn)行排序，按照類似等分的方式將期刊劃分為四個(gè)區(qū)：Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是，JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）存在不同之處。例如，兩者的分區(qū)數(shù)量不同，JCR分為四個(gè)區(qū)，而中科院分區(qū)則分為176個(gè)學(xué)科，每個(gè)學(xué)科又按照影響因子高低分為四個(gè)區(qū)。此外，兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

歷年發(fā)文數(shù)據(jù)

年份	年發(fā)文量
2014	40
2015	77
2016	75
2017	76
2018	76
2019	66
2020	110
2021	83
2022	65
2023	56

期刊互引關(guān)系

被他刊引用情況
期刊名稱	引用次數(shù)
OPT EXPRESS	90
J SOC INF DISPLAY	64
LIQ CRYST	32
IEEE ELECTR DEVICE L	29
IEEE T ELECTRON DEV	27
J MATER CHEM C	25
JPN J APPL PHYS	20
ACS APPL MATER INTER	19
APPL OPTICS	19
IEEE J ELECTRON DEVI	19

引用他刊情況
期刊名稱	引用次數(shù)
OPT EXPRESS	81
J SOC INF DISPLAY	64
APPL PHYS LETT	53
APPL OPTICS	35
ADV MATER	24
J APPL PHYS	22
NATURE	22
DISPLAYS	19
IEEE ELECTR DEVICE L	19
ACM T GRAPHIC	18