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    Ieee Electron Device Letters

    IEEE 電子器件字母
    國(guó)際簡(jiǎn)稱:IEEE ELECTR DEVICE L

    Ieee Electron Device Letters

    SCIE

    按雜志級(jí)別劃分: 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)

    • 2區(qū) 中科院分區(qū)
    • Q2 JCR分區(qū)
    • 477 年發(fā)文量
    • 100.00% 研究類文章占比
    • 4.62% Gold OA文章占比
    ISSN:0741-3106
    創(chuàng)刊時(shí)間:1980
    是否預(yù)警:否
    E-ISSN:1558-0563
    出版地區(qū):UNITED STATES
    是否OA:未開(kāi)放
    出版語(yǔ)言:English
    出版周期:Monthly
    影響因子:4.1
    出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
    審稿周期: 約1.3個(gè)月
    CiteScore:8.2
    H-index:135
    出版國(guó)人文章占比:0.35
    開(kāi)源占比:0.057
    文章自引率:0.1020...

    Ieee Electron Device Letters雜志簡(jiǎn)介

    Ieee Electron Device Letters是由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商主辦的工程技術(shù)領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊,自1980年創(chuàng)刊以來(lái),一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(hào)(ISSN:0741-3106,E-ISSN:1558-0563),出版周期Monthly,其出版地區(qū)設(shè)在UNITED STATES。該期刊的核心使命旨在推動(dòng)工程技術(shù)專業(yè)及ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC學(xué)科界的教育研究與實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的交流,發(fā)表同行有創(chuàng)見(jiàn)的學(xué)術(shù)論文,提倡學(xué)術(shù)爭(zhēng)鳴,激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新,開(kāi)展國(guó)際間學(xué)術(shù)交流,為工程技術(shù)領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。

    該期刊文章自引率0.1020...,開(kāi)源內(nèi)容占比0.057,出版撤稿占比0,OA被引用占比0,讀者群體主要包括工程技術(shù)的專業(yè)人員,研究生、本科生以及工程技術(shù)領(lǐng)域愛(ài)好者,這些讀者群體來(lái)自全球各地,具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。Ieee Electron Device Letters已被國(guó)際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)“ SCIE(Science Citation Index Expanded) ”收錄,方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用,有助于推動(dòng)ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的研究進(jìn)展和創(chuàng)新發(fā)展。

    CiteScore(2024年最新版)

    • CiteScore:8.2
    • SJR:1.25
    • SNIP:1.5
    學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
    大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q1 128 / 797

    84%

    大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q1 51 / 284

    82%

    CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評(píng)估,打破了過(guò)去僅依賴單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過(guò)綜合廣泛的引用數(shù)據(jù),跨越多個(gè)學(xué)科領(lǐng)域,從而確保了更高的透明度和開(kāi)放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分,包括SNIP(源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響)、SJR(SCImago雜志排名)、引用文檔計(jì)數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo),幫助研究者深入了解超過(guò)22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個(gè)指標(biāo)的詳細(xì)信息。

    CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對(duì)比

    Ieee Electron Device Letters中科院分區(qū)表

    中科院分區(qū) 2023年12月升級(jí)版
    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū)
    中科院分區(qū) 2022年12月升級(jí)版
    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū)
    中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級(jí)版
    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū)
    中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū)
    中科院分區(qū) 2021年12月升級(jí)版
    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū)
    中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級(jí)版
    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū)
    中科院分區(qū)表歷年分布趨勢(shì)圖

    WOS期刊JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

    按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
    學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 94 / 352

    73.4%

    按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
    學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q1 77 / 354

    78.39%

    JCR(Journal Citation Reports)分區(qū),也被稱為JCR期刊分區(qū),是由湯森路透公司(現(xiàn)在屬于科睿唯安公司)制定的一種國(guó)際通用和公認(rèn)的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫(kù),按照期刊的影響因子進(jìn)行排序,按照類似等分的方式將期刊劃分為四個(gè)區(qū):Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是,JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))存在不同之處。例如,兩者的分區(qū)數(shù)量不同,JCR分為四個(gè)區(qū),而中科院分區(qū)則分為176個(gè)學(xué)科,每個(gè)學(xué)科又按照影響因子高低分為四個(gè)區(qū)。此外,兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

    歷年發(fā)文數(shù)據(jù)

    年份 年發(fā)文量
    2014 393
    2015 402
    2016 394
    2017 419
    2018 448
    2019 459
    2020 417
    2021 429
    2022 522
    2023 477

    期刊互引關(guān)系

    被他刊引用情況
    期刊名稱 引用次數(shù)
    IEEE T ELECTRON DEV 1587
    IEEE ELECTR DEVICE L 1317
    JPN J APPL PHYS 594
    APPL PHYS LETT 460
    IEEE J ELECTRON DEVI 445
    APPL PHYS EXPRESS 366
    SEMICOND SCI TECH 277
    J APPL PHYS 268
    SOLID STATE ELECTRON 257
    ECS J SOLID STATE SC 249
    引用他刊情況
    期刊名稱 引用次數(shù)
    IEEE ELECTR DEVICE L 1317
    IEEE T ELECTRON DEV 865
    APPL PHYS LETT 812
    J APPL PHYS 318
    ADV MATER 217
    NANO LETT 150
    ACS APPL MATER INTER 142
    SCI REP-UK 138
    NATURE 132
    APPL PHYS EXPRESS 119
    若用戶需要出版服務(wù),請(qǐng)聯(lián)系出版商:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。

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