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    Ieee Transactions On Plasma Science

    IEEE Transactions On Plasma Science
    國際簡稱:IEEE T PLASMA SCI

    Ieee Transactions On Plasma Science

    SCIE

    按雜志級別劃分: 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)

    • 4區(qū) 中科院分區(qū)
    • Q3 JCR分區(qū)
    • 419 年發(fā)文量
    • 99.05% 研究類文章占比
    • 3.86% Gold OA文章占比
    ISSN:0093-3813
    創(chuàng)刊時間:1973
    是否預(yù)警:否
    E-ISSN:1939-9375
    出版地區(qū):UNITED STATES
    是否OA:未開放
    出版語言:English
    出版周期:Bimonthly
    影響因子:1.3
    出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
    審稿周期: 約3.7個月
    CiteScore:3
    H-index:98
    開源占比:0.0733
    文章自引率:0.2

    Ieee Transactions On Plasma Science雜志簡介

    Ieee Transactions On Plasma Science是由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商主辦的物理與天體物理領(lǐng)域的專業(yè)學術(shù)期刊,自1973年創(chuàng)刊以來,一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(ISSN:0093-3813,E-ISSN:1939-9375),出版周期Bimonthly,其出版地區(qū)設(shè)在UNITED STATES。該期刊的核心使命旨在推動物理與天體物理專業(yè)及PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS學科界的教育研究與實踐經(jīng)驗的交流,發(fā)表同行有創(chuàng)見的學術(shù)論文,提倡學術(shù)爭鳴,激發(fā)學術(shù)創(chuàng)新,開展國際間學術(shù)交流,為物理與天體物理領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。

    該期刊文章自引率0.2,開源內(nèi)容占比0.0733,出版撤稿占比0,OA被引用占比0.0011...,讀者群體主要包括物理與天體物理的專業(yè)人員,研究生、本科生以及物理與天體物理領(lǐng)域愛好者,這些讀者群體來自全球各地,具有廣泛的學術(shù)背景和興趣。Ieee Transactions On Plasma Science已被國際權(quán)威學術(shù)數(shù)據(jù)庫“ SCIE(Science Citation Index Expanded) ”收錄,方便全球范圍內(nèi)的學者和研究人員檢索和引用,有助于推動PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS領(lǐng)域的研究進展和創(chuàng)新發(fā)展。

    CiteScore(2024年最新版)

    • CiteScore:3
    • SJR:0.417
    • SNIP:0.861
    學科類別 分區(qū) 排名 百分位
    大類:Physics and Astronomy 小類:Nuclear and High Energy Physics Q2 42 / 87

    52%

    大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q3 247 / 434

    43%

    CiteScore: 這一創(chuàng)新指標力求提供更為全面且精確的期刊評估,打破了過去僅依賴單一指標如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù),跨越多個學科領(lǐng)域,從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標的重要組成部分,包括SNIP(源文檔標準化影響)、SJR(SCImago雜志排名)、引用文檔計數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標,幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標的詳細信息。

    CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對比

    Ieee Transactions On Plasma Science中科院分區(qū)表

    中科院分區(qū) 2023年12月升級版
    大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    物理與天體物理 4區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū)
    中科院分區(qū) 2022年12月升級版
    大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū)
    中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級版
    大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū)
    中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
    大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    物理 4區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū)
    中科院分區(qū) 2021年12月升級版
    大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū)
    中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級版
    大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū)
    中科院分區(qū)表歷年分布趨勢圖

    WOS期刊JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

    按JIF指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
    學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 29 / 40

    28.7%

    按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
    學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 30 / 40

    26.25%

    JCR(Journal Citation Reports)分區(qū),也被稱為JCR期刊分區(qū),是由湯森路透公司(現(xiàn)在屬于科睿唯安公司)制定的一種國際通用和公認的期刊分區(qū)標準。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫,按照期刊的影響因子進行排序,按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區(qū):Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是,JCR分區(qū)的標準與中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))存在不同之處。例如,兩者的分區(qū)數(shù)量不同,JCR分為四個區(qū),而中科院分區(qū)則分為176個學科,每個學科又按照影響因子高低分為四個區(qū)。此外,兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

    歷年發(fā)文數(shù)據(jù)

    年份 年發(fā)文量
    2014 763
    2015 574
    2016 470
    2017 451
    2018 561
    2019 714
    2020 559
    2021 515
    2022 645
    2023 419

    期刊互引關(guān)系

    被他刊引用情況
    期刊名稱 引用次數(shù)
    IEEE T PLASMA SCI 2237
    PHYS PLASMAS 585
    J PHYS D APPL PHYS 364
    PLASMA SOURCES SCI T 296
    J APPL PHYS 236
    AIP ADV 211
    FUSION ENG DES 209
    IEEE ACCESS 201
    IEEE T ELECTRON DEV 180
    PLASMA SCI TECHNOL 172
    引用他刊情況
    期刊名稱 引用次數(shù)
    IEEE T PLASMA SCI 2237
    PHYS PLASMAS 882
    J PHYS D APPL PHYS 759
    IEEE T MAGN 593
    J APPL PHYS 583
    PLASMA SOURCES SCI T 427
    APPL PHYS LETT 341
    PHYS REV LETT 300
    REV SCI INSTRUM 278
    IEEE T DIELECT EL IN 268
    若用戶需要出版服務(wù),請聯(lián)系出版商:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。

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